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除蔡司 Xradia Versa 系列 X 射線顯微鏡為眾人所熟知的優(yōu)勢外 -- 最高分辨率、最佳襯度、RaaD（大工作距離下的高分辨率）技術(shù)及無損亞微米 X 射線成像 -- 蔡司 Xradia 520 Versa 還借助突破性的技術(shù)與創(chuàng)新全面提升實驗室 X 射線成像性能：

雙能掃描襯度觀察系統(tǒng)（Dual Scan Contrast Visualizer，DSCoVer）
DSCoVer 擁有兩種不同斷層掃描模式的并排調(diào)節(jié)功能，可檢測到在單次掃描中難以檢測的樣品信息，從而使研究人員能夠快速便捷地收集雙能量分析所需的數(shù)據(jù)。在兩種不同的 X 射線光譜下或兩種不同狀態(tài)下對樣品成像，將產(chǎn)生的數(shù)據(jù)集對齊組合，然后在確保獲得感興趣材料最佳襯度的同時實現(xiàn)研究參數(shù)可重復。

DSCoVer 利用 X  射線與樣品內(nèi)材料原子序數(shù)和密度的相互作用，從而提供獨特的分辨能力，例如巖石內(nèi)的礦物差異性，以及區(qū)分其它難于辨識的材料，如硅和鋁的差異。

高縱橫比斷層掃描（High-Aspect Ratio Tomography，HART）
Xradia 520 Versa中創(chuàng)新的高縱橫比斷層掃描（HART）為導體封裝樣品和電路板等平坦樣品提供更高通量成像。HART可進行可變投影間隔采集，沿扁平樣品的前側(cè)收集較少的投影數(shù)，而沿樣品薄側(cè)則收集更多的投影數(shù)。與排列稀疏的短視圖相比，緊密排列的長視圖能夠提供更加豐富的 3D 數(shù)據(jù)。

您還可以調(diào)整 HART 以獲得更高通量或更好的圖像質(zhì)量，從而有可能將圖像采集速度提高2倍。

自動 X 射線濾光片轉(zhuǎn)換器（Automated Filter Changer，AFC）
現(xiàn)在更加容易對挑戰(zhàn)性的樣品進行成像。用于調(diào)節(jié) X 射線能譜的射線源濾光片是 DSCoVer 技術(shù)和原位應用的重要輔助裝置。AFC 包含了 12 個標準系列濾光片，同樣也可為新應用增加其它用戶自定義濾光片。通過編程輕松實現(xiàn)濾光片切換并將其記錄在成像方案中，在不中斷工作的情況下完成濾光片切換。

寬視場模式
寬視場模式（WFM）在斷層掃描過程中既可獲得大樣品成像時需要的擴展橫向視場，也可為標準視場提供更高的分辨率。在對大樣品成像時，利用標準視場近兩倍的橫向視場，可獲得3倍以上的三維體積數(shù)據(jù)。而利用標準視場時，WFM 可獲得近兩倍的的體素。將 WFM 和垂直拼接技術(shù)結(jié)合，可獲得比利用標準視場時更寬和更高的成像。

可選配的自動進樣系統(tǒng)
蔡司Xradia Versa 系列的三維X射線顯微鏡可選配自動進樣系統(tǒng)，在盡可能減少使用者相互影響的基礎(chǔ)上最大化設(shè)備使用率。通過執(zhí)行多個掃描任務(wù)，減少用戶間的相互影響并提高效率。自動進樣系統(tǒng)可同時安裝多達14個樣品，排隊，并進行全天候連續(xù)運行或者停止?？刂栖浖屇伸`活重新排列、取消任務(wù)和停止排隊，并隨時可放入優(yōu)先成像樣品。在搜索和掃描控制軟件中包括了郵件提醒功能，讓您及時了解到樣品隊列的狀態(tài)。自動進樣系統(tǒng)也為您提供了大量重復樣品掃描的工作流程解決方案。

備選原位接口組件
X 射線顯微鏡特別適合在條件可控的變化環(huán)境下進行成像，包括隨時間變化的無損四維表征及三維顯微結(jié)構(gòu)變化的定量分析。獨特的設(shè)計結(jié)構(gòu)使 Xradia Versa 成為業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的解決方案，支持多種原位輔助裝置：高壓流通池、拉伸和壓縮測試裝置及熱臺。備選的原位接口組件既穩(wěn)定又堅固耐用，可支持大型復雜的原位裝 置，并確保了 Xradia Versa卓越的性能。Xradia Versa提供用戶接口可通過編程來實現(xiàn)簡化操作。