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配備 GEMINI II 鏡筒的 MERLIN 可以借助先進的探測模式和‘future assured’技術在單一系統(tǒng)平臺上實現(xiàn)超快速分析與高分辨成像。
經過預校準的 GEMINI II 光學成像設置,如電壓或探針電流,能夠根據(jù)您的需求進行調整以滿足應用和樣品要求,且無需再重新校準。即便無經驗的用戶也能獲得最佳成像結果。經系統(tǒng)優(yōu)化后的高束流密度、300 nA 探針電流及高束流下的超高分辨率,確保了在納米級分析應用中的快速成像。
利用 正光軸 in-lens 二次電子(SE)探測與能量選擇背散射(EsB)探測獲取最豐富的樣品信息,用以檢測材料組份中最細微的差異。
Merlin具有全方位的靈活性,滿足您的各種應用需求,Merlin借助模塊化的樣品室設計、可變壓力選件,15個端口及一系列特定應用模塊,如原子力顯微鏡(AFM)、原位超薄切片機、大面積成像以及能夠輕松應對非導電樣品的局部電荷中和模塊,它能夠升級成為一個綜合的納米分析平臺。
參數(shù) |
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分辨率 |
高達 0.6nm(STEM 模式) |
探針電流 |
高達 300nA |
加速電壓 |
20V 至 30 kV |
探測模式(可選) |
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In-lens(SE) |
正光軸 in-lens 二次電子探測 |
In-lens(EsB) |
用于材料襯度成像的正光軸in-lens 能量選擇背散射探測;in-lens SE 和 EsB 并行成像 |
角度選擇背散射探測器(AsB) |
用于晶體表面的結構分析。 |
3DSM | 用于實時三維表面形貌成像。 |
STEM |
低電壓優(yōu)化明場、4 象限暗場和大角度暗場透射成像。 |
選件(可選) | |
ATLAS 大面積成像 | 用于大尺寸樣品區(qū)域拼接。 |
原子力顯微鏡(AFM)技術 |
擴展掃描電鏡性能,使其具有解析單原子層和檢測表面磁性或局部導電率的能力。 |
局部電荷中和 |
可以實現(xiàn)非導電樣品成像。 |
3View | 原位超薄切片機可實現(xiàn)大體積軟組織三維重構。 |
只需使用一系列特定應用選件,便能獲取納米材料、半導體樣品、礦物、鋼鐵或合金的更豐富信息:
新型材料、納米復合材料、聚合物、高強度鋼和半導體結構的性能關鍵取決于最小的組份結構。配置有正光軸能量選擇背散射電子(EsB)探測功能的 MERLIN 全套探測系統(tǒng)是探究這些組份結構的最佳儀器。低能損背散射電子的能量過濾變化對材料組份、衍生物和相非常敏感,因此能夠被區(qū)分開。獨一無二的對稱式正光軸設計可確保拍攝參數(shù)改變時無需重新校準。
此外,Merlin還配置有能夠探測其他綜合樣品信息的信號,如 in-lens 二次電子探測器。
只需簡單更換載物臺,便能在一個簡單的工作流程中分別體驗兩者的優(yōu)勢:
MERLIN 系統(tǒng)可升級具備三維成像能力:3DSM 解決方案可以像傳統(tǒng)二維成像一樣輕松完成樣品表面的實時三維成像。獲取的三維圖像可以通過諸如立體視圖、網絡視圖、紋理視圖或輪廓重疊的方式顯示。該模塊還能夠獲得定量三維模型,用以測量表面粗糙度及表面形貌。
集成的計量 軟件可以進行三維表面可視化及生成完整的計量報告。