Nicolet Almega XR 顯微和宏拉曼分析系統(tǒng)
發(fā)布時間: 2010-04-21 13:53
產(chǎn)品編號:
2281724316
產(chǎn)品名稱:
顯微和宏拉曼分析系統(tǒng)
規(guī) 格:
Nicolet Almega XR
產(chǎn)品備注:
鑒定和識別小顆粒--小至0.5微米。 最適合顆粒污染鑒定。
產(chǎn) 品 說 明
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Thermo Scientific Nicolet Almega XR提供最高效率和多功能性--尤其適用于樣品可能是任何物質(zhì)而分析速度是至關(guān)重要時。
Nicolet Almega XR拉曼分析系統(tǒng)提供最高的采樣多功能性和效能。 該儀器專為致力于解決價值問題的實驗室而設(shè)計,它可快速生成結(jié)果及迅速重新配置以適用于各種樣品類型。 Nicolet Almega XR支持微量和宏量采樣、多次激發(fā)激光以及各種自動化采樣模式。 幾乎所有的系統(tǒng)重新配置都通過軟件完成,操作人員能夠快速地在采樣模式之間切換, 多次激發(fā)激光優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。 大部分情形下,它可以在15秒內(nèi)更改配置并在屏幕上展示測量預(yù)覽結(jié)果。
Capabilities
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鑒定和識別小顆粒--小至0.5微米。 最適合顆粒污染鑒定
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高分辨率深度剖析和表層下分析透明和半透明樣品。 最適合用于特征化涂層、多層薄板、薄膜、夾雜物和次表面缺陷
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有機(jī)和無機(jī)樣品。 光譜范圍提供低至100cm-1的測量,特別適用于無機(jī)物,因其通常具有低頻率帶
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分子形態(tài)特性分析。 良好的碳分子和硅分子骨架可以較好的區(qū)分多晶型藥物以及無定形晶體硅和許多其他材料
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自動化數(shù)據(jù)收集和用于制藥行業(yè)多晶體再結(jié)晶研究的分析套件
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表面積和表層下的表征受益于x-y區(qū)域圖和x-z圖
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通過玻璃和塑料包裝測量。 允許直接通過證物袋、安瓿注射劑和防護(hù)涂層測量
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備有支持孔板、片劑陣列、試管和樣品瓶自動測量的樣品附件
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使用可選的光纖探針對過大而無法放在顯微鏡下的樣品進(jìn)行遠(yuǎn)程取樣
High-Performance
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快速配置切換允許重新配置和在數(shù)秒內(nèi)優(yōu)化使用新樣品的系統(tǒng)。
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激光器、濾光片、光柵和孔徑的選擇完全由軟件控制。
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用于快速測量的高靈敏度
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極佳的空間分辨率--證明顯示與在適用樣品上的540nm分辨率一致
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極佳的共聚焦深度剖析--證明顯示與適用樣品上的1.7um一致
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所有激光器都具有自動熒光校正功能
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集成的Olympus BX-51研究顯微鏡
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白光校正生成的光譜可與儀器和不同的激發(fā)激光之間的光譜相媲美
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多維波長校準(zhǔn)提供在整個范圍內(nèi)的準(zhǔn)確波長校準(zhǔn); 校準(zhǔn)過程為完全自動化,可使用軟件計劃在工作時間外(即儀器不在使用時)執(zhí)行校準(zhǔn)
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在共聚焦和高性能收集模式之間的軟件控制切換開關(guān)
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專利的自動化宇宙射線抑制算法和高質(zhì)量激光波長濾光片確保獲得完美的光譜
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激光器功率可調(diào)節(jié)低至0.1%
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優(yōu)化各個激光器的光柵,避免分享用于多個激光器的光柵的系統(tǒng)犧牲其效能
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每個激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長驅(qū)動結(jié)合,提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--均完全由軟件控制。
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專利的自動準(zhǔn)直確保系統(tǒng)保持在如新的狀態(tài)中
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專利的智能化背景自動移除CCD暗場功率配置
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在顯微鏡和宏量采樣儲存室之間的切換完全由軟件控制
Versatility
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顯微鏡測量、專用的宏量采樣使用自動取樣器功能和遠(yuǎn)程光纖采樣功能完成--均在一個儀器內(nèi)
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每個激光的高分辨率和低分辨率光柵與高精密波長驅(qū)動結(jié)合,提供高度靈活性以優(yōu)化光譜分辨率和光譜范圍--這一切均完全由軟件控制。
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可選的抗斯托克斯測量功能
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可選的極化拉曼測量
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用于顯微鏡的加熱/冷卻階段選項
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備有可用于宏量采樣的加熱/冷卻樣品室、濕度樣品室和電化學(xué)樣品室
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光致發(fā)光測量模式
Software and Databases
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備有廣泛的光譜庫收集(>16,000個化合物)
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數(shù)據(jù)庫搜索算法優(yōu)化用于拉曼數(shù)據(jù)
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功能強大的光譜搜索軟件提供在單一操作時識別材料的多組分
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Omnic Atlus精密的成像和圖像分析軟件可快速定制化學(xué)圖像顯示
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功能強大的宏制作工具可利用單一按鈕快速獲取重復(fù)性操作
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Omnic陣列提供自動化數(shù)據(jù)收集和基于樣品格式(例如孔板)的陣列分析--最適用于多晶體再結(jié)晶實驗
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連接到光譜的審查跟蹤功能會自動跟蹤所有采集參數(shù)和處理操作
Ease of Use
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專利待決的Autoexposure簡化了優(yōu)化曝光時間和曝光次數(shù)的程序
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只需單擊軟件即可更改激光器、濾光片和光柵以及優(yōu)化新組件的準(zhǔn)直
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準(zhǔn)直程序在軟件中為全自動化。 用戶只需將準(zhǔn)直工具放在顯微鏡下,軟件即會執(zhí)行其他步驟。 用戶不需要作出任何決策來指引程序
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校準(zhǔn)為完全自動,可使用軟件計劃在工作時間外執(zhí)行校準(zhǔn)
Benefit of a Fully Integrated System
規(guī)格為主要系統(tǒng)規(guī)格而非組件規(guī)格。 這樣,可以隨時提供規(guī)格供終端用戶驗證,消除了通過結(jié)合組件規(guī)格計算系統(tǒng)效能的需要。
Reliability and Maintenance
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系統(tǒng)只要求完全由系統(tǒng)控制的常規(guī)自動準(zhǔn)直。
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校準(zhǔn)過程為完全自動,用戶無需對數(shù)據(jù)質(zhì)量作出任何判斷來指引程序。
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激光器可在不使用時自動關(guān)閉以確保其使用壽命
Laser Safety
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顯微鏡個別具有一級激光安全認(rèn)證。 (注意: 可選的光纖附件和一些其他可選的附件為class IIIb級激光裝置,要求激光防范措施和激光安全護(hù)目鏡。
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激光通過物理方法阻擋視覺查看路徑以防止查看時暴露于眼睛。
Validation
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備有可用的DQ/IQ/OQ/PQ驗證的完整套件,包括廣泛的文檔和自動化軟件協(xié)議
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Omnic D/S軟件符合CFR 21第11部分規(guī)范
Recommended for:
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法醫(yī)--痕跡證據(jù)和違禁藥物鑒定
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制藥行業(yè)--多晶體、顆粒污染和擴(kuò)散研究
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太陽能--硅晶體; 光電材料特性分析
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聚合物--夾雜物和凝膠缺陷、風(fēng)化效應(yīng)、薄板帶層以及晶體
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缺陷分析--特性分析顆粒和表面上的小點
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納米技術(shù)--特性分析graphene、CNT、DLC涂層和其他納米結(jié)構(gòu)
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學(xué)術(shù)研究--在材料科學(xué)、生物學(xué)研究和許多應(yīng)用的研究領(lǐng)域特別有用
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